기업명 비공개

도쿄일렉트론코리아는 에칭 장비, 증착 장비에서 높은 점유율을 보유하고 있고 극자외선 트랙 장비 분야에서는 세계 90% 이상의 압도적 점유율을 보유하고 있습니다. 또한 최근에 R&D현지화를 위해 한국에 1000억원을 투자하기로 결정함에 따라 우리나라의 반도체 인력 양성, 칩 제조 기업 측면 지원이 탄력을 받을 전망이며, 다소 열악하다고 지적 받았던 국내 반도체 소재, 부품, 장비 생태계가 한층 업그레이드 될 수 있는 발판이 마련 될 것으로 보입니다. 이러한 도쿄일렉트론코리아의 높은 경쟁력과 우리나라 내에서의 다져질 입지로, 더욱 더 성장할 가능성이 큰 회사라 생각되어 지원하게 되었습니다. diffusion & thin film공정은 웨이퍼의 전기적 소통을 위한 공정으로, 반도체 회로를 구현하였을 때 동작속도와 전력소모량 등 회로특성에 큰 영향을 줄 수 있는 공정입니다. 포토, 에치, 그리고 금속배선공정 사이를 연결 해 주는 중요한 중간다리 역할을 하는 공정이라고 생각합니다.

저의 장점은 의사소통능력이 뛰어나다는 것입니다. 제가 생각하는 의사소통능력이란 정보를 오차 없이 확실하게 전달하고, 타인이 의심스럽게 생각하는 부분을 충분한 설명을 통해 이해를 도와 납득시키는 것이라고 생각합니다. 학원에서 아르바이트를 할 때 학부모님께 100건 가까이 되는 특강비 전화안내를 드려 특강비 납부율을 90%까지 올린 경험이 있습니다. 전화를 드려 안내를 드리며 정보를 확실히 전달하고, 특강비에 대해 이해를 하지 못하시는 부분은 충분한 설명을 드려 납득을 시켜드렸습니다. 이러한 저의 경험은 조직생활에서 발생할 수 있는 소통의 오차를 줄여 위기에 대응하고, 갈등 상황에서도 유연하게 대처할 수 있는 밑거름이 될 것입니다. 반면에 저의 단점은 타인을 통솔하는 카리스마는 부족하다는 것입니다. 따라서 저는 수학학원에서 학생들을 가르치는 아르바이트를 하여 학생들을 가르치고, 지도하는 등 선생님으로서 타인을 통솔하는 역량을 길렀습니다.

학부 수업으로 반도체 공정 과목을 이수하여 반도체 8대 공정 프로세스에 관한 전반적인 지식을 습득할 수 있었고, 졸업 후에도 반도체에 대한 꾸준한 관심으로 인하대학교 LINC+사업단에서 주관하는 반도체 공정 실습에 참여하여 웨이퍼 위에 직접 photo, etching, deposition, cleaning 공정을 통해 MOSCAP을 만들어 cv 곡선을 측정하여 elipsometer로 도출된 산화막 두께와 cet로 직접 계산한 산화막 두께가 왜 차이가 생기는지에 대한 토론을 진행하였습니다. 그 이후에도 반도체 설계교육센터인 IDEC에서 반도체소자 및 CMOS 집적 공정을 수강하였고, 이공계 핵심인재 양성 평생교육원에서 NCS 강의인 반도체 소자의 이해, 반도체의 정석, 반도체 전 공정, 후공정 패키징&테스트 중급 과정을 수강하고 수료하여 반도체에 대한 지식을 더욱 자세하게 습득할 수 있었습니다.

먼저 신입사원으로써 적극적이고 능동적인 자세로 누구보다 빠르게 업무를 익히겠습니다. 장비에 대해 완벽하게 이해하고 발생하는 이슈들을 정확하게 파악하여 신속하게 해결해 나가며, 고객의 단단한 신뢰를 목표로 업무에 임하겠습니다. 또한 일본계 기업으로 일본어 능력의 함양이 뒷받침 된다면 더욱 더 원활한 업무 수행을 할 것이라고 생각됩니다. 따라서 일본어 어학 능력을 위해 꾸준히 노력 할 것입니다. 입사 후 연차가 쌓이면 여러 이슈 문제들과 더불어 고객과의 갈등상황을 해결 한 경험을 토대로 후배들에게 저의 기술력과 노하우를 아낌없이 전수해 주며 도쿄일렉트론코리아의 꾸준한 발전을 위해 노력할 것입니다.